制冷加熱控溫系統的典型應用：高壓反應釜冷熱源動態恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態恒溫控制、雙層反應釜冷熱源動態恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制；小型恒溫控制系統、蒸餾系統控溫、材料低溫高溫老化測試、組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制。

制冷加熱控溫系統優點與功能：溫度范圍從-120℃至350℃，性能優越，高精度、智能型溫度控制。多功能報警系統和安全功能、7寸、10寸彩色TFT觸摸屏圖形顯示，采用磁力驅動泵，沒有軸封泄漏問題。高溫降溫技術，可以從300℃直接制冷降溫【因為只有膨脹腔體內的導熱介質才和空氣中的氧氣接觸（而且膨脹箱的溫度在常溫到60度之間），可以達到降低導熱介質被氧化和吸收空氣中水份的風險。

控溫系統結構設計原理和功能優勢

高溫時沒有導熱介質蒸發出來，而且不需要加壓的情況下就可以實現 -80～190℃、-70～220℃、-88～170℃、-55～250℃、-30～300℃連續控溫；

采用全密閉管道式設計，降低導熱液需求量的同時，提高系統的熱量利用率，達到快速升降溫度。 膨脹容器中的導熱介質不參與循環，可以降低導熱介質在運行中吸收水分和揮發的風險；

型號		SUNDI-175 SUNDI-175W
介質溫度范圍		-10℃～+200℃
控制系統		前饋PID ,無模型自建樹算法，PLC控制器
溫控模式選擇		物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇
溫差控制		設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定
程序編輯		可編制5條程序，每條程序可編制40段步驟
通信協議		MODBUS RTU 協議 ?RS 485接口
外接入溫度反饋		PT100或4～20mA或通信給定（默認PT100)
溫度反饋		設備導熱介質 進口溫度、出口溫度、反應器物料溫度（外接溫度傳感器）三點溫度
導熱介質溫控精度		±0.5℃
反應物料溫控精度		±1℃
加熱功率 kW		7.5
制冷量?kW	200℃	7.5
	20℃	7.5
	-5℃	4.2
流量壓力 max L/min bar		50
		2
壓縮機		艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機
膨脹閥		丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥
蒸發器		丹佛斯/高力板式換熱器
操作面板		7英寸彩色觸摸屏，溫度曲線顯示、記錄
安全防護		具有自我診斷功能；冷凍機過載保護；高壓壓力開關，過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。
密閉循環系統		整個系統為全密閉系統，高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份，系統在運行中不會因為高溫使壓力上升，低溫自動補充導熱介質。
制冷劑		R-404A/R507C
接口尺寸		G1
水冷型 W 溫度 20度		1200L/H 1.5bar~4bar G3/4
外型尺寸(水）cm		55*100*175
外形尺寸 (風）cm		55*100*175
隔爆尺寸(風) cm		55*120*170
正壓防爆(水）cm		110*95*195
常規重量kg		235
電源 380V 50HZ		10kW
選配風冷尺寸cm		50*68*145