400-100-3173
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半導(dǎo)體制造是一個對環(huán)境要求極高的過程,許多工藝步驟對溫度非常敏感。例如,在光刻工藝中,光刻機(jī)的光學(xué)系統(tǒng)需要在穩(wěn)定的溫度環(huán)境下工作,因為溫度的微小變化可能導(dǎo)致光路的偏差,進(jìn)而影響光刻的精度。在化學(xué)氣相沉積(CVD)和物理氣相沉積(PVD)等工藝中,反應(yīng)溫度直接影響薄膜的質(zhì)量和性能。精確的溫度控制能夠確保沉積的薄膜厚度均勻、成分準(zhǔn)確,從而提高芯片的性能和良率。
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