行業(yè)新聞

Thermal Inducing System氣流溫度沖擊系統(tǒng)操作指南：從入門到精通
2025/03/19 283
Thermal Inducing System氣流溫度沖擊系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)-55℃~225℃快速溫變，控溫精度±0.1℃，適用于芯片老化、材料熱性能測(cè)試等場(chǎng)景。以下是Thermal Inducing System 氣流溫度沖擊系統(tǒng)操作指南的整理，結(jié)合搜索結(jié)果從基礎(chǔ)操...
查看全文
如何選擇適合您需求的熱流儀？全面解析
2025/03/19 448
熱流儀適用于半導(dǎo)體、材料測(cè)試，那么如何選擇適合需求的熱流儀的解析，從技術(shù)參數(shù)、應(yīng)用場(chǎng)景到行業(yè)趨勢(shì)，提供多維度決策指南。一、明確核心測(cè)試需求選擇熱流儀的首要步驟是明確測(cè)試目標(biāo)與場(chǎng)景需求，避免功能冗...
查看全文
無錫冠亞半導(dǎo)體Chiller在晶圓制造如何應(yīng)用
2025/03/14 584
無錫冠亞半導(dǎo)體Chiller在晶圓制造中的應(yīng)用主要集中在為半導(dǎo)體制造過程中的關(guān)鍵步驟提供準(zhǔn)確的溫度控制。以下是無錫冠亞半導(dǎo)體Chiller在晶圓制造中的一些具體應(yīng)用：氧化工藝溫度控制：在氧化工藝中，無錫冠亞Chi...
查看全文
無錫冠亞溫控chiller在半導(dǎo)體測(cè)試中的應(yīng)用與優(yōu)勢(shì)
2025/03/14 314
半導(dǎo)體測(cè)試是確保芯片性能與可靠性的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。隨著芯片集成度的不斷提高，測(cè)試工藝對(duì)溫度控制的要求愈發(fā)嚴(yán)苛。無錫冠亞溫控設(shè)備為測(cè)試工藝提供了可靠支持。本文將詳細(xì)介紹其應(yīng)用場(chǎng)景與技術(shù)優(yōu)勢(shì)，并探討其如何助...
查看全文
半導(dǎo)體控溫裝置Chiller：高精度溫控助力芯片制造，穩(wěn)定節(jié)能提升良率
2025/03/06 621
冠亞恒溫介紹什么是半導(dǎo)體chiller深冷機(jī)？ Chiller 英文有恐怖的意思，但在芯片制造中指的是制冷控制設(shè)備。Chiller 是集成電路制造中用于溫度控制的系統(tǒng)，主要是在DRY ETCH ,CVD,CMP 和 RTP 的工藝中控制硅片托盤...
查看全文
半導(dǎo)體行業(yè)控溫用chiller在存儲(chǔ)芯片封裝廠的應(yīng)用
2025/03/04 318
在半導(dǎo)體行業(yè)的存儲(chǔ)芯片封裝廠中，半導(dǎo)體行業(yè)控溫用chiller的應(yīng)用對(duì)于確保封裝過程的質(zhì)量和效率影響比較大。以下是一些具體的應(yīng)用案例：案例一：芯片固化過程的溫度控制應(yīng)用描述：在存儲(chǔ)芯片封裝過程中，通...
查看全文
如何維護(hù)化學(xué)氣相沉積冷卻chiller
2025/02/27 545
在薄膜沉積工藝中，Chiller（冷卻機(jī)）的應(yīng)用影響比較大，因?yàn)闇?zhǔn)確的溫度控制可以確保薄膜的質(zhì)量和均勻性。以下是一些薄膜沉積工藝中Chiller的應(yīng)用案例：案例一：物理氣相沉積（PVD）工藝?yán)鋮s 　　應(yīng)用描述：在...
查看全文
半導(dǎo)體光學(xué)系統(tǒng)冷卻裝置chiller應(yīng)用案例
2025/02/27 574
半導(dǎo)體光學(xué)系統(tǒng)中，半導(dǎo)體光學(xué)系統(tǒng)冷卻裝置chiller的應(yīng)用影響比較大，因?yàn)闇?zhǔn)確的溫度控制可以確保系統(tǒng)的性能和穩(wěn)定性。以下是一些具體的應(yīng)用案例：案例一：激光器溫度控制　　應(yīng)用描述：在半導(dǎo)體激光器系統(tǒng)中...
查看全文
擴(kuò)散工藝溫控裝置chiller冷卻介質(zhì)選擇指南
2025/02/26 372
選擇合適的擴(kuò)散工藝溫控裝置chiller冷卻介質(zhì)對(duì)于確保系統(tǒng)的運(yùn)行和長(zhǎng)期穩(wěn)定性，以下是一份Chiller冷卻介質(zhì)選擇指南： 1. 了解冷卻介質(zhì)的類型水：常用的冷卻介質(zhì)，成本低廉，熱容大，但可能引起腐蝕和水垢問題。 ...
查看全文
如何選擇合適的沉積工藝溫控裝置chiller
2025/02/26 520
選擇合適的沉積工藝溫控裝置chiller對(duì)于確保半導(dǎo)體制造過程中刻蝕步驟的效率和質(zhì)量至關(guān)重要。以下是一些關(guān)鍵因素和步驟，用于指導(dǎo)您選擇合適的Chiller： 1. 確定溫度范圍和控制精度溫度范圍：根據(jù)刻蝕工藝的具...
查看全文

400電話: