TCU控溫單元

TCU溫度控制單元

無錫冠亞TCU溫控系統可實現-120度~300度的動態控溫，TCU溫控系統采用現有的熱能（如蒸汽、冷卻水及超低溫液體——即“初級系統”）基礎設施集成到用來控制工藝設備溫度的單流體系統或二級回路中。這就完成了只有一種熱傳導液體流入到反應容器的夾套中（而不是直接通入蒸汽、冷卻水或超低溫液體），通過運算控制整個反應過程溫度。

ZLF系列——直通式控流量參數

ZLF-N系列采用主冷源/或主熱源通過比例調節系統流量，控制進入反應釜夾套的熱量，同時還有一組用于加熱或冷卻的換熱器控制升溫或降溫。具備ZLF-N功能外，ZLF- NS增加一組換熱器用于高溫降溫功能；ZLF- NH增加電輔助加熱功能；ZLF- NSH增加一組換熱器用于高溫降溫功能和電輔助加熱功能。

型號	ZLF系列
溫度范圍	?-45°C ~ +250°C

SR系列——采用二次換熱

控溫范圍：-120°C to +250°C

SR系列采用一組冷卻換熱器，一組加熱換熱器，通過比例調節閥控制冷熱量進入到換熱器，再通過統一介質輸入到反應釜夾套進行換熱控溫，系統內置有膨脹罐。具備SR- N功能之外，SR-NS系列增加一組換熱器用于高溫降溫功能；SR-NH系列增加電輔助加熱功能；SR-NSH系列增加一組換熱器用于高溫降溫功能和電輔助加熱功能。

型號	SR系列
溫度范圍	-120°C ~ +250°C

ST系列——熱水加熱系統

控溫范圍：10°C to +135°C

應用：在醫藥、化工企業的工藝生產中需要采用蒸汽加熱，實現工藝保溫或對工藝進行熱水循環加熱。為滿廣大客戶需要，根據我們多年設計生產經驗，特設計由蒸汽作為熱源、常溫水作為水源的熱水控溫裝置。

型號	ST系列
溫度范圍	+10°C ~ +135°C

集散溫度控制系統——化學合成工藝過程控制系統

DCS集散式自動控制系統應用計算機控制技術，可以使制藥生產的工藝操作和參數得到科學的、有效的、嚴格的監測和控制，實現制藥生產的連續化和自動化。

本方案基于先進的過程控制系統SIMATIC PCS 7設計是參考新版GMP藥品生產質量管理規范中對實時放行檢測及國際制藥工程學會（ISPE）提出的產品生命周期實施的先進理念，建立制藥生產全過程質量監控體系，實現從原料至成品的生產全過程質量管理，使得藥品生產過程數字化、規范化、并具備數據可追溯性功能和預警功能，全面提高制藥生產質控水平。

型號	集散溫度控制系統
溫度范圍	集散式控溫系統

TCU溫度控制單元優勢? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ?

用戶可以在一個較寬的溫度范圍得到一個密閉的、可重復的溫度控制，可實現-120度～300度控溫；
避免了傳統設備設施的更換及夾套維護的需求;較小的流體體積也保證了控制回路快速的反應并且熱反應延遲很小；
內置電加熱導熱油輔助系統，可根據需求自動開啟輔助加熱系統，降低蒸汽使用壓力；
可以通過快速運行準確配比各熱量需求，達到節約能源目的；
通過準確快速運算控制整個反應過程溫度，對于整個反應過程中出現放熱和吸熱反應進行快速響應控制；
預留有標準化接口，可根據實際需求增加冷熱源換熱模塊；
可選擇控制反應過程溫度和單流體溫度，同時反應過程溫度與導熱單流體溫度之間的溫差是可設定可控制的；
可進行配方管理與生產過程記錄；

無錫冠亞恒溫制冷提供7*24的免費咨詢，您只需要提供自己控溫需求，由我們給你提供全面的解決方案！

聯系我們：400-100-3173

SUNDI系列制冷加熱控溫系統

控溫范圍：-120°C ~ +350°C

特點：不僅可以控制導熱介質溫度，還可以控制反應物料溫度

應用：各種反應器（微通道、玻璃、夾套反應器等）、蒸餾或萃取系統、實驗室、大學、研究所、航空航天、汽車工業、半導體和電氣測試、化學、制藥、石化、生化、醫療、醫院、研發車間、航空航天和生物等行業。

型號	SUNDI-320/420w/430w	SUNDI-1系列	SUNDI-2系列	SUNDI-3系列	SUNDI-5系列	SUNDI-6系列	SUNDI-7系列	SUNDI-8系列	SUNDI-9系列	SUNDI-10系列
溫度范圍	-40 ~ +200°C	-10 ~ +200°C	-25 ~ +200°C	-25 ~ +300°C	-45 ~ +300°C	-60 ~ +250°C	-70 ~ +250°C	-80 ~ +250°C	-90 ~ +250°C	-100 ~ +100°C

制冷加熱控溫系統典型應用? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ?

高壓反應釜冷熱源動態恒溫控制
雙層玻璃反應釜冷熱源動態恒溫控制
雙層反應釜冷熱源動態恒溫控制
微通道反應器冷熱源恒溫控制
小型恒溫控制系統、蒸餾系統控溫
材料低溫高溫老化測試
組合化學冷源熱源恒溫控制
半導體設備冷卻加熱
真空室制冷加熱恒溫控制

溫度過程控制原理（控制反應釜物料）? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ??

1、改變控制設定值的方法，能夠盡快的響應過程中的系統滯后，得到較小的系統過沖。控制由兩組PID（每組PID是可變的）控制回路構成，這兩組控制回路稱為：主回路和從回路，主回路的控制輸出作為從回路的設定值。系統采用帶有前饋PV ,主控回路的PID運行結果的輸出與前饋PV信號復合后作為從控制回路的設定值，通過這樣對溫度變化梯度控制，保證系統控溫精度。（一般抗滯后串級控制）

2、專門設計的滯后預估器（無模型自建樹算法）產生一個代替過程變量y（t）的動態信號yc（t）來作為反饋信號。對控制器產生一個e（t）信號，使控制器預判控制作用沒有大的滯后，這樣控制器總是能夠產生一個合適的控制信號。也就是說，即使存在大滯后，這個動態信號yc（t）也能保持反饋回路正常工作.而用一般PID來控制具有顯著時間滯后的過程，則控制器輸出在滯后時間內由于得不到合適的反饋信號保持增長，從而導致系統響應超調大甚至使系統失控。

3、通過三點采樣（物料溫度點、溫控系統出口溫度、溫控系統進口溫度），通過我們公司自創無模型自建樹算法和一般抗滯后串級算法相結合。

其他控溫產品? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ?

低溫冷凍機